氮化銦
中文名稱: 氮化銦英文名稱:azanylidyneindigane別名:氮化銦(III)分子式: InN
分子量: 128.82CAS號: 25617-98-5
質(zhì)檢信息檢驗(yàn)項(xiàng)目 指標(biāo)含量, ≥99.9%(高純試劑)水溶解試驗(yàn) 合格水不溶物,% ≤0.02重金屬(以Pb計(jì)),% ≤0.002PSA: 23.79000LOGP: 0.01508
化學(xué)特性氮化銦是一種化學(xué)物質(zhì),黑色粉末,為新型的半導(dǎo)體功能材料,在所有Ⅲ族氮化物半導(dǎo)體材料中,pH 10(1M,H2O,25℃)。熔點(diǎn) 275℃(dec.)。沸點(diǎn) 300℃/760mmHg(劇烈分解)。密度 ρ(20)1.846g/mL。對空氣和濕敏感。不穩(wěn)定,加熱至300℃時分解成鈉和氮?dú)?。溶于水?a href="http://yuehuifs.cn/goods.php?id=283">氨水,不溶于乙醚,微溶于乙醇和苯。溶于堿、濃硫酸,不溶于其它酸。由六氟合銦(Ⅲ)酸銨在氨氣流中加熱分解制得。在現(xiàn)有技術(shù)中,高質(zhì)量的氮化銦的生長十分困難,原因在于,由于氮化銦具有較低的熱穩(wěn)定性,分解溫度低,通常在600℃,在生長氮化銦的過程中,通常采用氨氣作為氮源,其分解溫度較高,通常為了使得氨氣分解產(chǎn)生所需要的氮?dú)?,需要將反?yīng)室加熱到1000℃左右,這與氮化銦的生長相互矛盾,造成氮化銦生長困難。氮化銦具有良好的穩(wěn)態(tài)和瞬態(tài)電學(xué)傳輸特性,它有最大的電子遷移率、最大的峰值速率、最大的飽和電子漂移速率、最大的尖峰速率和有最小的帶隙、最小的電子有效質(zhì)量等優(yōu)異的性質(zhì),這些使得氮化銦相對于氮化鋁(AlN)和氮化鎵(GaN)等其它Ⅲ族氮化物更適合用于制備高頻器件,在高頻率、高速率晶體管的應(yīng)用開發(fā)方面具有非常獨(dú)特的優(yōu)勢,尤其在在制備太赫茲器件,化學(xué)傳感器、半導(dǎo)體發(fā)光二極管、全光譜太陽能電池等光電器件領(lǐng)域具有巨大的應(yīng)用價值。依溫度的不同,氮化銦的能階可以到約~0.7 eV[3](以往認(rèn)定的值是1.97 eV)。其有效電子質(zhì)量已由高磁場的測量所確認(rèn) ,[4][5], m*=0.055 m0。氮化銦和氮化鎵的合金為三元體系的氮化銦鎵,其直接能階從紅外線(0.69 eV)延伸到紫外線(3.4 eV)。氮化銦的多晶薄膜有高導(dǎo)電性,在氦的溫度下甚至有超導(dǎo)性。其超導(dǎo)轉(zhuǎn)態(tài)溫度為Tc依其薄膜結(jié)構(gòu)而定,會低于4 K[6][7]。其超導(dǎo)性在強(qiáng)磁場(數(shù)個特斯拉)下仍然存在,這和金屬在磁場為 0.03 T時超導(dǎo)性就會下降的特性不同。其超導(dǎo)的特性是因?yàn)榻饘巽煹逆湢罱Y(jié)構(gòu)[6]或是奈米簇,其中依照金茲堡-朗道方程,較小的尺寸增高了臨界磁場.利用金屬有機(jī)化學(xué)氣相淀積生長的氮化銦薄膜的光致發(fā)光特性,由于氮化銦本身具有很高的背景載流子濃度,費(fèi)米能級在導(dǎo)帶之上,通過能帶關(guān)系圖以及相關(guān)公式擬合光致發(fā)光圖譜可以得到生長的氮化銦的帶隙為0.67cV,并且可以計(jì)算出相應(yīng)的載流子濃度為 n = 5.4×10cm,從而找到了一種聯(lián)系光致發(fā)光譜與載流子濃度兩者的方法。另外通過測量變溫條件下氮化銦的發(fā)光特性,可研究發(fā)光峰位以及發(fā)光強(qiáng)度隨溫度的變化關(guān)系,發(fā)現(xiàn)光致發(fā)光強(qiáng)度隨溫度的升高逐漸降低,發(fā)光峰位隨溫度的升高只是紅移,并沒有出現(xiàn)“S”形的非單調(diào)變化,這種差異可能是由于光致發(fā)光譜的半高寬過高導(dǎo)致,同時也可能與載流子濃度以及內(nèi)建電場強(qiáng)度有關(guān)。
產(chǎn)品用途氮化銦用作是一種新型的三族氮化物材料。這種材料的引人之處在于它的優(yōu)良的電子輸運(yùn)性能和窄的能帶,有望應(yīng)用于制造新型高頻太拉赫茲通信的光電子器件.在太陽能電池及其他高速電子學(xué)上有潛在的應(yīng)用.
生產(chǎn)方法在快速的氨氣流中加熱(NH4)3InF6或用氨在620~630℃與In2O3反應(yīng)(4h)可制備氮化銦InN。步驟S1、提供一襯底,在所述襯底上沉積一層介電薄膜;步驟S2、對所述介電薄膜進(jìn)行圖案化,得到均勻排列的多個介電凸臺;步驟S3、提供一反應(yīng)室,將所述形成有介電凸臺的襯底放入反應(yīng)室中并將所述反應(yīng)室抽真空;步驟S4、在所述介電凸臺及襯底上生長緩沖層,在介電凸臺的阻擋下,所述緩沖層的橫向生長與縱向生長產(chǎn)生差異,使得所述緩沖層在每一個介電凸臺的上方對應(yīng)形成一個凹槽;步驟S5、在所述緩沖層上生長氮化銦,得到分別位于所述多個凹槽中的多個氮化銦柱,每一個凹槽中對應(yīng)形成一個氮化銦柱。將1克三氧化二銦、1克升華硫和4克氨基鈉加入到一個20毫升的不銹鋼高壓釜中,封好后放入能夠程序升溫的電爐中,爐溫20分鐘內(nèi)從室溫升到190℃,然后在190℃下維持30小時后自然冷卻到室溫。高壓釜中的最終的產(chǎn)物包括黑色的沉積物和殘留的氣體。把粘在釜壁內(nèi)表面上的黑色沉積物收集起來用蒸餾水和無水乙醇洗滌多次,過濾后得到的樣品,樣品分別在真空干燥箱中于50℃干燥4小時,最后收集起來用于表征。采用日本RigakuD/max-γA型X射線粉末衍射(XRD)儀對粉體進(jìn)行物相分析,CuKα石墨單色器,管壓和電流分別為40kV和20mA,掃描速度10.0°·min-1。
產(chǎn)品信息 [重量] 1g [顏色] 黑色 危險性類別 [危險性類別] 危險化學(xué)品
